Processing of nano-holes and pores on SiO2 thin films by MeV heavy ions. <I>Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B

Silva C, Milanez; Varisco, P; Moehlecke, A; Fichtner P, P; Papaléo R, m; Eriksson, Jan

doi:10.1016/s0168-583x(03)00803-6

Forskningsartikel2003Vetenskapligt granskadÖppen tillgång

Processing of nano-holes and pores on SiO2 thin films by MeV heavy ions. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B

Silva C, Milanez; Varisco, P; Moehlecke, A; Fichtner P, P; Papaléo R, m; Eriksson, Jan

Tillgång till publikationen
Öppen tillgång
Läs extern fulltext (pdf)

Publicerad i

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms
2003, nummer: 206, sidor: 486-489
Utgivare: Elsevier

SLU författare
Eriksson, Jan
Institutionen för molekylära vetenskaper, Sveriges lantbruksuniversitet

Publikationens identifierare

DOI: https://doi.org/10.1016/s0168-583x(03)00803-6

Permanent länk till denna sida (URI)

https://res.slu.se/id/publ/1642